厂家优质贴片三管

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三管的结构和类型

晶体三管，是半导体基本元器件之一，具有电流放大作用，是电子电路的核心元件。三管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结，两个PN结把正块半导体分成三部分，中间部分是基区，两侧部分是发射区和集电区，排列方式有PNP和NPN两种，
从三个区引出相应的电，分别为基b发射e和集电c。
发射区和基区之间的PN结叫发射结，集电区和基区之间的PN结叫集电。基区很薄，而发射区较厚，杂质浓度大，PNP型三管发射区"发射"的是空穴，其移动方向与电流方向一致，故发射箭头向里；NPN型三管发射区"发射"的是自由电子，其移动方向与电流方向相反，故发射箭头向外。发射箭头向外。发射箭头指向也是PN结在正向电压下的导通方向。硅晶体三管和锗晶体三管都有PNP型和NPN型两种类型。

三管的封装形式和管脚识别
常用三管的封装形式有金属封装和塑料封装两大类，引脚的排列方式具有一定的规律，
底视图位置放置，使三个引脚构成等腰三角形的**点上，从左向右依次为e b c；对于中小功率塑料三管按图使其平面朝向自己，三个引脚朝下放置，则从左到右依次为e b c。
目前，国内各种类型的晶体三管有许多种，管脚的排列不尽相同，在使用中不确定管脚排列的三管，必须进行测量确定各管脚正确的位置，或查找晶体管使用手册，明确三管的特性及相应的技术参数和资料。

晶体三管的电流放大作用
晶体三管具有电流放大作用，其实质是三管能以基电流微小的变化量来控制集电电流较大的变化量。这是三管基本的和重要的特性。我们将ΔIc/ΔIb的比值称为晶体三管的电流放大倍数，用符号“β”表示。电流放大倍数对于某一只三管来说是一个定值，但随着三管工作时基电流的变化也会有一定的改变。

晶体三管的三种工作状态
截止状态：当加在三管发射结的电压小于PN结的导通电压，基电流为零，集电电流和发射电流都为零，三管这时失去了电流放大作用，集电和发射之间相当于开关的断开状态，我们称三管处于截止状态。
放大状态：当加在三管发射结的电压大于PN结的导通电压，并处于某一恰当的值时，三管的发射结正向偏置，集电结反向偏置，这时基电流对集电电流起着控制作用，使三管具有电流放大作用，其电流放大倍数β＝ΔIc/ΔIb，这时三管处放大状态。
饱和导通状态：当加在三管发射结的电压大于PN结的导通电压，并当基电流增大到一定程度时，集电电流不再随着基电流的增大而增大，而是处于某一定值附近不怎么变化，这时三管失去电流放大作用，集电与发射之间的电压很小，集电和发射之间相当于开关的导通状态。三管的这种状态我们称之为饱和导通状态。
根据三管工作时各个电的电位高低，就能判别三管的工作状态，因此，电子维修人员在维修过程中，经常要拿多用电表测量三管各脚的电压，从而判别三管的工作情况和工作状态。